膜厚测试仪是一种用于测量物体表面薄膜厚度的仪器，其工作原理根据不同的测量技术而有所不同。以下是几种常见的膜厚测试仪及其工作原理：
1. 机械接触式膜厚仪
工作原理：通过探针或触针直接接触被测表面，测量薄膜与基体之间的高度差，从而计算出薄膜的厚度。
特点：
适用于粗糙表面或较厚的薄膜。
精度较低，可能对薄膜造成损伤。
2. 光学膜厚仪
工作原理：利用光学原理（如反射、干涉、折射等）测量薄膜厚度。常见的光学膜厚仪包括：
椭偏仪：通过测量入射光和反射光的偏振状态变化，计算薄膜厚度和折射率。
干涉仪：基于光的干涉现象，测量薄膜上下表面的反射光相位差，从而计算厚度。
反射率法：通过测量薄膜对特定波长光的反射率，结合光学模型计算厚度。
特点：
非接触式测量，不会损伤薄膜。
精度高，适用于纳米级薄膜测量。
需要已知薄膜的光学参数（如折射率）。
3. 超声波膜厚仪
工作原理：利用超声波在薄膜和基体中的传播速度差异，通过测量超声波往返时间来计算薄膜厚度。
特点：
适用于多层结构或较厚的薄膜。
对薄膜表面粗糙度要求较低。
需要耦合剂（如水或油）以保证超声波传输。
4. 电磁感应式膜厚仪
工作原理：基于电磁感应原理，通过测量涡流或磁场变化来推算薄膜厚度。适用于金属薄膜或导电材料。
特点：
非接触式测量。
适用于金属或导电薄膜。
受材料电磁特性影响较大。
5. 放射性膜厚仪
工作原理：利用放射性同位素（如β射线或X射线）穿透薄膜，通过测量辐射强度衰减程度计算薄膜厚度。
特点：
适用于厚膜或高密度材料。
需要严格的安全防护措施。
6. 电容式膜厚仪
工作原理：通过测量薄膜与电极之间的电容变化，推算薄膜厚度。适用于介电薄膜或绝缘材料。
特点：
非接触式测量。
适用于薄层或介电材料。
7. X射线荧光膜厚仪
工作原理：利用X射线照射薄膜，通过测量荧光辐射的强度和能量，分析薄膜成分和厚度。
特点：
适用于多层薄膜或复杂成分分析。
需要较高的设备成本和专业操作。
